不使用摩擦、藥物等物理處理方式，使用電子線、放射線、紫外線等高能量進(jìn)行表面處理的一項(xiàng)技術(shù)。

紫外光表面清洗技術(shù)在國(guó)際上是隨著光電子信息產(chǎn)業(yè)的發(fā)展而提出來的。七十年代中期美國(guó)軍事電子技術(shù)和器件實(shí)驗(yàn)室應(yīng)用紫外光照射清洗石英晶片取得滿意的效果。但是，美國(guó)在較長(zhǎng)的時(shí)間里紫外光表面清洗技術(shù)主要在軍事領(lǐng)域中進(jìn)行研究性應(yīng)用。直到九十年代初，日本和美國(guó)先后將UV光清洗機(jī)應(yīng)用于民用光電子產(chǎn)品的工業(yè)生產(chǎn)過程，并開始向我國(guó)個(gè)別外資LCD企業(yè)在要求技術(shù)保密的情況下提供UV光清洗機(jī)。隨后，日本在發(fā)展紫外光表面清洗技術(shù)的同時(shí)，紫外光表面改質(zhì)技術(shù)也得到了發(fā)展。

在二十世紀(jì)末，日本等先進(jìn)工業(yè)國(guó)家紫外光表面清洗和改質(zhì)技術(shù)由信息產(chǎn)業(yè)逐步擴(kuò)展到金屬、塑料、橡膠等工業(yè)生產(chǎn)過程。二十世紀(jì)九十年代后期，我國(guó)的信息技術(shù)和產(chǎn)業(yè)以驚人的速度飛速發(fā)展，特別是平板顯示技術(shù)的高速發(fā)展，LCD顯示屏由TN級(jí)向STN和TFT不斷提升，新型的OLED顯示產(chǎn)品也開始進(jìn)入市場(chǎng)。由此，對(duì)制備工藝過程表面質(zhì)量要求越來越嚴(yán)格，紫外光表面清洗技術(shù)的優(yōu)越性已經(jīng)得到廣泛認(rèn)可，UV光清洗機(jī)的需求量正在不斷增長(zhǎng)。

 

VUV低壓紫外汞燈能同時(shí)發(fā)射波長(zhǎng)254nm和 185nm的紫外光，這兩種 波長(zhǎng)的光子能量可以直接打開和切斷有機(jī)物分子中的共價(jià)鍵，使有機(jī)物分子活化，分解成離子、游離態(tài)原子、受激分子等。與此同時(shí)，185nm波長(zhǎng)紫外光的光能量能將空氣中的氧氣（O2）分解成臭氧（O3）；而254nm波長(zhǎng)的紫外光的光能量能將O3分解成O2和活性氧（O），這個(gè)光敏氧化反應(yīng)過程是連續(xù)進(jìn)行的，在這兩種短波紫外光的照射下，臭氧會(huì)不斷的生成和分解，活性氧原子就會(huì)不斷的生成，而且越來越多，由于活性氧原子（O）有強(qiáng)烈的氧化作用，與活化了的有機(jī)物（即碳?xì)浠衔铮┓肿影l(fā)生氧化反應(yīng)，生成揮發(fā)性氣體（如CO2，CO，H2O，NO等）逸出物體表面，從而徹底清除了粘附在物體表面上的有機(jī)污染物。